影响无氰碱性镀铜镀液的主要因素

2015-08-05 939

1开缸剂
SF–638Cu无氰碱铜开缸剂为稀释液,呈蓝色,主要由铜盐和络合剂组成。其中,铜盐是硫酸铜、氯化铜 、硝酸铜和碱式碳酸铜中的一种或几种混合物;络合剂与促进剂中的络合剂相同。铜离子含量为18 g/L, 其参加量为250、500 mL /L,用于配缸及铜离子浓度的补充,还有其他均衡成份。开缸剂参加量太小,则 铜含量太低,溶液的导电性能差,分散速度慢,高区容易烧焦;开缸剂参加量太大,则铜含量太高,溶液 的分散才能下降,结合力差,溶液带出损失大。镀液中的铜含量可以通过化学剖析停止控制,一般为5.0 、8 g/L。在电镀锌合金件或铝合金沉锌后的工件中,铜含量不得高于6.0 g/L,同时采用带电下槽的方式 ,以免发生置换铜层,影响结合力。
2促进剂
SF–638E无氰碱铜促进剂为无色或淡*1*液体,由络合剂、阳极活化剂、金属杂质的掩蔽剂和导电盐组成 。其中,络合剂是由氨基三亚甲基膦酸(ATMP)、乙二胺四亚甲基膦酸钠(EDTMPS)、羟基乙叉二膦酸( HEDP)、二乙烯三胺五亚甲基膦酸(DTPMPA)、三乙烯四胺六甲叉膦酸钠(TETHMPS)、酒石酸钾、葡萄 糖酸钠和柠檬酸钠中的一种或几种组成的混合物,润湿剂是阴离子型磺酸盐类表面活性剂。需要日常添加 补充,其添加量为80、120 mL/L,消耗量为800 、1 000 mL / kA·h。促进剂含量低,镀液分散才能、掩 盖才能下降,阳极容易钝化。镀液中促进剂的含量可活期送镀液到本公司停止剖析控制。
3pH
该工艺pH控制在9、10范围内可以取得良好的镀层,最佳值为9.6。pH值太低,镀层溶液发生置换,招致其 结合力下降;pH值太高,光亮密度范围缩小,且镀层粗糙,高区呈现毛刺。假如pH过低,可用20%的碳酸 钾水溶液调整,如pH值过高,可用10%的硫酸溶液调整。
4温度
该工艺中,镀液温度范围为25 、45 ℃,最佳值为30 ℃。温度太低,镀层光泽性、镀液的分散性能太差 ,高区容易烧焦;温度高,则电流密度范围大。但是温度太高,则阴极极化降低,镀层结晶变粗,槽液的 挥发量大,耗能大。
5电流密度
本工艺的电流密度范围为0.3、2 A/dm2。电流密度太低,镀层沉积速度太慢,镀层太薄;电流密度太大, 高区结晶粗糙,容易呈现烧焦,最佳值为1 A/dm2。

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